Utensili da taglio a popcorn rivestiti di CVD
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Utensili da taglio a popcorn rivestiti di CVD

$130 1-99
Others
$115 ≥100
Others
$11,300.00   —  $5,600,000.00 /Set
option

Descrizione del prodotto

Caratteristiche del prodotto

Customized SupportOem

Place Of OriginJiangsu, China

Brand NameGold star

Model NumberD12*150

MaterialCarbide, solid carbide

CoatingDiamond coated, Diamond coated

Product NameCVD Diamond coated solid carbide endmills

Hardness9000HV

Applicationhigh speed machining center

Coating ProcessCVD coated

Styleas good as Japan

Suitable ForCFRP

Capacità di fornitura e informazioni ag...

Pacchettotubo di plastica + cartone

Confezionamento e consegna

Unità vendibili:
piece
Tipo pacchetto:
tubo di plastica + cartone
Esempio immagine:

Descrizione del prodotto

Descrizione del prodotto

Product Name
CVD Diamond coated solid carbide endmills for high speed machining center
Material
solid carbide.
coating 
Diamond coated.
Type
Not PCD, but one time molding. which made it more durable. 
Coating process
CVD coating, make it surface coating as 5-10um.
Hardness 
9000 HV.
Shank Diameter
3-16mm
Overall length
50-200mm
Cutting Diameter
0.2-16mm
Number of Flutes
2/4
Application
Graphite machine/machining center/CNC engraving and milling machine high speeding machine
material used for

high density non-metal products



Utensili da taglio a popcorn rivestiti di CVD

La deposizione di vapore chimico (CVD) è un metodo utilizzato per produrre rivestimenti naturali a basso stress per mezzo di reazioni chimiche indotte termicamente.

Le sostanze di base utilizzate per il rivestimento sono vaporizzate e fornite alla zona di rivestimento come vapore. Il vapore quindi si decompone o reagisce con ulteriori sostanze di base, producendo così un film sottile sul substrato. Questo può essere eseguito sotto vuoto o a pressione atmosferica.

Sono necessarie temperature del substrato fino a 1000 gradi Celsius per ottenere le reazioni di superficie. Questi processi possono essere assistiti al plasma, il che aumenta la velocità di reazione e riduce la temperatura del rivestimento.

Il processo CVD viene utilizzato per depositare da 5 a 12 µm, in alcuni casi fino a 20 µm di rivestimenti di spessore. I materiali utilizzati sono tic, ticn, stagno e ossido di alluminio (Al 2 0 3 ). I rivestimenti possono essere applicati come singoli o multistrati.


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